北方华创申请等离子体刻蚀系统和方法专利, 解决现有技术中刻蚀孔的侧壁垂直程度较差问题

发布日期：2025-05-21 03:18    点击次数：175

金融界2025年5月1日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“等离子体刻蚀系统和方法”的专利，公开号CN119890021A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，本申请提供了一种等离子体刻蚀系统和方法，解决了现有技术中刻蚀孔的侧壁垂直程度较差的问题。其中，等离子体刻蚀系统包括：粒子束生成装置，用于生成沿预定方向出射的粒子束；可移动载台，位于粒子束生成装置的出射粒子束的一侧，可移动载台包括承载表面；以及离化装置，位于粒子束生成装置的远离可移动载台的一侧，离化装置用于提供电离环境；其中，可移动载台包括初始工作状态和第一工作状态，在初始工作状态下，预定方向和承载表面之间的夹角为锐角，在第一工作状态下，可移动载台基于初始工作状态绕承载表面的法线自转。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1027次，财产线索方面有商标信息61条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

本文源自：金融界